应物理科学与技术学院邀请，日本秋田高技术研究所原所长大内一弘教授来我校讲学，为我校磁学专业的研究生和本科生围绕垂直磁记录材料及技术这一研究热点举办了系列学术讲座，并对我校相关科研工作进行交流指导。大内一弘教授在此次系列讲座中，详实的讲解了磁记录的发展、垂直磁记录介质材料及磁头材料的制备和分析、介质和磁头的结构设计以及磁记录的未来发展趋势等内容。在磁记录的历史方面，介绍了从钢丝录音机到超高密度垂直磁记录磁盘的技术变革以及其中磁性材料、机械结构、记录原理的变化。而后介绍了常用磁性薄膜的多种制备工艺，特别对于磁控溅射技术中的原理、仪器设备、各种制备参数对薄膜结构和性质的影响等都做了详细的讲解。结合垂直磁记录的基本原理，分析了现今常用的Co-Cr系薄膜的宏观、微观磁性与记录表现之间的相互联系并结合微磁学基本原理介绍了薄膜性能评价的多种技术手段。详细讲解了垂直磁记录用磁头的具体结构，制作工艺，设计上的不断改良以及垂直磁记录介质的多层膜结构，每层膜在介质中的作用，对读写性能的影响等。最后介绍了正在研究中的更高密度的磁记录介质与磁头在原理、结构上的变化和发展方向。

大内教授的讲座不仅讲授了很多科学知识，也传达了善于思考，勇于坚持的科学精神。对于本科生来说充实了磁学基础知识，开阔了眼界，使他们了解到科学研究的方法、过程，并激发了对科研的兴趣和热情；而对于科研工作来说，由于讲座中对薄膜材料制备原理、工艺等进行了非常详细的介绍，因此对于我们分析理解各项工艺参数对实验结果的影响，进而得到性能优异的材料有很大的帮助。另一方面对磁记录领域最前沿的研究内容的介绍也为我们寻找新的科研方向提供了依据。此次系列学术讲座的开展进一步促进我校与秋田高技术研究所的合作研究。