5月15日，应物理科学与技术学院和萃英学院邀请，中科院微电子所陈宝钦研究员来访我院并做客“格致·创新”论坛，并作了题为“微电子技术及微光刻电子束光刻发展与展望”的报告。

报告中，陈宝钦研究员首先阐述了半导体制造工艺是人类迄今为止最精细的加工工艺。就半导体制造工艺的所需要的基本要求做了简单介绍：最完美的晶体、最精密的设备、最精确的工艺、最干净的材料、最洁净的环境、最敬业的人员。半导体制造工艺靠千百万材料工艺设备人员共同组成，任何一块短板决定整个国家的技术水平。只有全民族坚持诚信敬业讲究质量尊重工匠才有希望。其次，就微光刻技术的发展历程，光学光刻技术，光学光刻如何一次又一次突破光刻分辨率极限，电子束光刻工艺技术，电子抗蚀剂工艺技术，微纳加工数据处理技术，中国集成电路制造业的发展，微纳米加工技术逼近工艺极限，微电子器件结构逼进物理极限及摩尔定律面临失效后，微电子技术去向何方等各个方面做了系统的介绍分析。最好，陈宝钦研究员将魔方的奇妙变换与科学研究结合起来，阐述了做人做事做学问的基本道理。

陈宝钦研究员的报告覆盖面较广，内容充实，报告过程中增加了很多互动环节，生动风趣，使老师和同学们收益很大。报告结束后，老师与同学们就此次报告提出了很多问题，陈宝钦研究员就老师和同学们提出的问题和疑问做了详细的解答，并与相关老师进行了交流和讨论。